[发明专利]光刻返工后残留光刻胶的去除方法在审
| 申请号： | 201310258513.8 | 申请日： | 2013-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN104252103A | 公开（公告）日： | 2014-12-31 |
| 发明（设计）人： | 沈佳 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻返工后残留光刻胶的去除方法，包括下列步骤：使用氢氟酸溶液浸泡残留有光刻胶的晶圆；使用SPM溶液对所述残留有光刻胶的晶圆进行清洗；使用APM对所述残留有光刻胶的晶圆进行清洗。本发明能够去除返工后仍然残留在晶圆上的光刻胶（通常已发生碳化），因此能够降低生产成本、提高生产原料利用率，避免造成浪费。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 返工 残留 去除 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻返工后残留光刻胶的去除方法，包括下列步骤：使用氢氟酸溶液浸泡残留有光刻胶的晶圆；使用第一溶液对所述残留有光刻胶的晶圆进行清洗；使用第二溶液对所述残留有光刻胶的晶圆进行清洗；所述第一溶液是硫酸和双氧水的混合溶液、所述第二溶液是氨水和双氧水的混合溶液，或所述第二溶液是硫酸和双氧水的混合溶液、所述第一溶液是氨水和双氧水的混合溶液。
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