[发明专利]光电二极管有效
申请号: | 201310259047.5 | 申请日: | 2013-06-26 |
公开(公告)号: | CN103325881A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 张云山 | 申请(专利权)人: | 林大伟;张云山 |
主分类号: | H01L31/103 | 分类号: | H01L31/103;H01L31/0352 |
代理公司: | 广东国欣律师事务所 44221 | 代理人: | 姜胜攀 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种光电二极管,其包括有一第一型基底,而第一型基底内包含一第二型掺杂井与一第二型掺杂区,并形成一隔离层包围第二型掺杂井且与第二型掺杂井并不接触;第二型掺杂区形成于第二型掺杂井内,并且从第二型掺杂井的表面延伸;一保护层,覆盖第一型基底;一接触导体,贯穿保护层,并且包括一接触层与一导电条;该接触层形成于该导电条的一端,接触并连接该第二型掺杂区。与先前技术相比较,本发明光电二极管的隔离区域与第二型掺杂井并不接触,以避免隔离层与主动区域之间界面缺陷所可能导致的暗电流干扰。 | ||
搜索关键词: | 光电二极管 | ||
【主权项】:
一种光电二极管,其特征在于,包括:一第一型基底,包含一上表面;一第二型掺杂井,设置于该第一型基底内,该第一型基底与该第二型掺杂井相邻接面区域为一PN连接界面;一第二型掺杂区,形成于该第二型掺杂井内,并且从该第二型掺杂井的表面延伸;一隔离区域,形成于该第一型基底内,并且不接触该第二型掺杂井;一保护层,形成于该第一型基底的上表面,并且覆盖该第二型掺杂区与该第二型掺杂井;以及一接触导体,贯穿该保护层,并且包括一接触层与一导电条,其中该接触层形成于该导电条的一端,并且接触及连接该第二型掺杂区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的