[发明专利]一种掩膜版及液晶显示器制造方法有效
申请号: | 201310260343.7 | 申请日: | 2013-06-24 |
公开(公告)号: | CN103345117A | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
发明(设计)人: | 刘文雄 | 申请(专利权)人: | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/44;G03F7/20;G03F7/42 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210033 江苏省南京市仙林大道科*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种掩膜版及液晶显示器制造方法,该液晶显示器制造需要至少形成2层薄膜图案的工艺在玻璃基板上,每层薄膜图案均需要一掩膜版,每张掩膜版包括位于中间的挖空的图案区域和位于图案区域周边的外围区域,在所述图案区域和外围区域之间设有至少一尺规,每层掩膜版的尺规在玻璃基板上的投影不重合。本发明通过在液晶显示器制造过程中,将掩膜版内设置具有刻度的尺规,在曝光形成特定图案后可以一次性的将玻璃基板周边剩余的残留图案能够一次性曝光掉,从而可以节约生产成本和方便操作。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜版 液晶显示器 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜版,其包括:位于中间的挖空的图案区域和位于图案区域周边的外围区域,其特征在于:在所述图案区域和外围区域之间设有至少一尺规。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京中电熊猫液晶显示科技有限公司,未经南京中电熊猫液晶显示科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310260343.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备