[发明专利]支架抛光装置和支架抛光方法有效

专利信息
申请号: 201310272381.4 申请日: 2010-05-19
公开(公告)号: CN103320846A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 钟生平;高洪亮;赵迎红;刘睿 申请(专利权)人: 易生科技(北京)有限公司
主分类号: C25F3/16 分类号: C25F3/16;C25F7/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种电化学抛光中的支架抛光装置及抛光方法,属于医用支架领域。其中,该支架抛光装置包括金属电极和设置在电解液中的阴极,还包括:连接部,用于将待抛光支架和所述金属电极连接以形成阳极;扩展部,包括两个金属管,分别设置在所述待抛光支架的两端,用于在电化学抛光过程中增加所述阳极的长度。本发明实施例能够有效改善支架抛光过程中造成的支架端部偏平的问题,提高支架整体抛光均匀性。本发明的技术方案可以应用在使用电化学方法抛光支架的系统中。
搜索关键词: 支架 抛光 装置 方法
【主权项】:
一种电化学抛光中的支架抛光装置,包括金属电极和设置在电解液中的阴极,其特征在于,还包括:连接部,用于将待抛光支架和所述金属电极连接以形成阳极;扩展部,包括两个金属管,分别设置在所述待抛光支架的两端,用于在电化学抛光过程中增加所述阳极的长度。
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