[发明专利]一种用于晶片表面平整度测量的工装在审

专利信息
申请号: 201310282855.3 申请日: 2013-07-05
公开(公告)号: CN104282588A 公开(公告)日: 2015-01-14
发明(设计)人: 沙恩水 申请(专利权)人: 天津浩洋环宇科技有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300384 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种能够快速并准确测量晶片表面平整度,并且不会对晶片产生划伤、压碎、磕边、污染等不良现象的用于晶片表面平整度测量的工装,包括水平设置的底座,底座上设置有晶片放置区,支架位于底座上,支架上设置激光测距仪以及用于带动激光测距仪运动的有X轴平动机构和Y轴平动机构,所述激光测距仪竖直设置。采用本发明的用于晶片表面平整度测量的工装,使用时通过激光测距仪的测点在晶片表面行走的方式,测量激光测距仪到镜片表面各个测点的距离,通过比对所测距离数值,就能够判断晶片表面是否平整。本发明结构简单,能够有效避免现有技术中的缺陷,保证晶片表面的完好无损,同时测量精度高,测量速度快。
搜索关键词: 一种 用于 晶片 表面 平整 测量 工装
【主权项】:
一种用于晶片表面平整度测量的工装,其特征在于:包括水平设置的底座,底座上设置有晶片放置区,支架位于底座上,支架上设置激光测距仪以及用于带动激光测距仪运动的有X轴平动机构和Y轴平动机构,所述激光测距仪竖直设置。
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