[发明专利]用于从基片去除金属氧化物的装置和方法

摘要

本发明披露了一种产生用于从基片去除金属氧化物的等离子的装置。该实施方式包括通电电极组件，它又包括：通电电极、第一介电层、以及被布置在该通电电极和该第一介电层之间的第一金属丝网。该实施方式还包括接地电极组件，它被布置在相对该通电电极组件一侧以形成腔，在该腔中产生该等离子，当该等离子存在于该腔中时，该第一介电层防护该第一金属丝网不受该等离子影响，该腔在一端具有出口以用于提供该等离子来去除该金属氧化物。

主权项

一种产生用于从基片去除金属氧化物的等离子的方法，该方法包括：向等离子体喷射装置内的通电电极施加射频(RF)电源以在放电室腔内产生等离子体，所述放电室腔设置在所述通电电极和接地电极之间，其中第一介电层设置在所述通电电极和所述放电室腔之间，并且第一金属丝网布置在所述通电电极和所述第一介电层之间，所述第一金属丝网具有多个孔，该孔的尺寸被选择为被施加的所述射频电源的波长的一部分；向所述放电室腔的第一端引入至少一种惰性气体和至少一种处理气体；保持所述至少一种惰性气体的体积流率小于1slm；由所述至少一种惰性气体和所述至少一种处理气体产生所述等离子；以及将基片放入由所述等离子体喷射装置从所述放电室腔的第二端产生的等离子体流出的区域内，其中在所述第一介电层和所述通电电极之间设置有第二介电层，其中所述第一金属丝网被设置在所述第一介电层和所述第二介电层之间。