[发明专利]一种反射偏光增亮膜及其制造方法有效
申请号: | 201310285758.X | 申请日: | 2013-07-09 |
公开(公告)号: | CN103364992A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 李明伟 | 申请(专利权)人: | 李明伟 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357;G02B5/30;G02B5/02 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 | 代理人: | 刘文求 |
地址: | 635100 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种反射偏光增亮膜及其制造方法,所述反射偏光增亮膜包括1/4波长位相差基材,液晶层,抗静电层,聚光层或扩散层,其制造方法具体包括以下步骤:按比例混合向列相液晶、手性剂、聚合物单体和光引发剂,得到向列相液晶混合体,将所述向列相液晶混合体涂布于所述1/4波长位相差基材的一面上,UV固化形成所述液晶层;在所述液晶层上涂布并UV固化形成所述抗静电层;在所述1/4波长位相差基材的另一面上涂布并UV固化形成所述聚光层或扩散层。采用UV固化方式生产工艺所得到品质更有保障,效率更高,成本更低。且所述反射偏光增亮膜可大幅提高背光模组的辉度,色度,均匀性稳定性和一致性。 | ||
搜索关键词: | 一种 反射 偏光 增亮膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种反射偏光增亮膜,其结构特征在于,包括一体设置的1/4波长位相差基材,液晶层,抗静电层,以及聚光层或扩散层;所述1/4波长位相差基材的一面从里向外依次设置所述液晶层和抗静电层,所述1/4波长位相差基材的另一面设置所述聚光层或扩散层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于李明伟,未经李明伟许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310285758.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种火化炉用碳化硅耐火材料
- 下一篇:可携式变温装置