[发明专利]一种反射偏光增亮膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310285758.X 申请日: 2013-07-09
公开(公告)号: CN103364992A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 李明伟 申请(专利权)人: 李明伟
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;G02B5/30;G02B5/02
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 代理人: 刘文求
地址: 635100 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开一种反射偏光增亮膜及其制造方法,所述反射偏光增亮膜包括1/4波长位相差基材,液晶层,抗静电层,聚光层或扩散层,其制造方法具体包括以下步骤:按比例混合向列相液晶、手性剂、聚合物单体和光引发剂,得到向列相液晶混合体,将所述向列相液晶混合体涂布于所述1/4波长位相差基材的一面上,UV固化形成所述液晶层;在所述液晶层上涂布并UV固化形成所述抗静电层;在所述1/4波长位相差基材的另一面上涂布并UV固化形成所述聚光层或扩散层。采用UV固化方式生产工艺所得到品质更有保障,效率更高,成本更低。且所述反射偏光增亮膜可大幅提高背光模组的辉度,色度,均匀性稳定性和一致性。
搜索关键词: 一种 反射 偏光 增亮膜 及其 制造 方法
【主权项】:
一种反射偏光增亮膜,其结构特征在于,包括一体设置的1/4波长位相差基材,液晶层,抗静电层,以及聚光层或扩散层;所述1/4波长位相差基材的一面从里向外依次设置所述液晶层和抗静电层,所述1/4波长位相差基材的另一面设置所述聚光层或扩散层。
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