[发明专利]一种透光型硅薄膜太阳能电池的制造方法无效

专利信息
申请号: 201310288388.5 申请日: 2013-07-10
公开(公告)号: CN104282807A 公开(公告)日: 2015-01-14
发明(设计)人: 吴泓;宗华;尤长林;顾中强;卫成刚;刘聪 申请(专利权)人: 国电光伏有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 成立珍
地址: 214203 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种透光型硅薄膜太阳能电池的制造方法,包括以下步骤:激光划刻前电极;非晶硅-微晶硅基薄膜电池沉积;激光划刻硅基薄膜层;利用掩膜溅射镀银电极;湿法蚀刻去除没有银层覆盖的硅基薄膜形成透光栅线;激光划刻,形成透光型硅薄膜太阳能电池。本发明所披露的方法可以制造低成本、高效率的透光型硅薄膜太阳能电池。
搜索关键词: 一种 透光 薄膜 太阳能电池 制造 方法
【主权项】:
一种透光型硅薄膜太阳能电池的制造方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)激光划刻前电极;(2)非晶硅‑微晶硅基薄膜电池沉积;(3)激光划刻硅基薄膜层;(4)利用掩膜溅射镀银电极;(5)湿法蚀刻去除没有银层覆盖的硅基薄膜形成透光栅线;(6)激光划刻,形成透光型硅薄膜太阳能电池。
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