[发明专利]一种镀膜方法、装置及显示器有效
| 申请号： | 201310291588.6 | 申请日： | 2013-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN103359951A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 韩帅 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种镀膜方法、装置以及包含所镀薄膜的显示器，用以制备出粒子排列规则有序，且厚度可控的超薄膜，使微观粒子结构更加有序，从而提高液晶显示器的光学效应，提高显示效果。所述镀膜方法包括：在溶液槽的底部设置下基板，并在其上方设置上基板，将待镀基板吸附于上基板上，且待镀基板面向溶液槽；在溶液槽中加入待镀物的溶液，其中包括用于形成单层分子膜的待镀离子；在下基板和上基板上同时施加外场作用力，使得所述溶液中的待镀离子形成单层分子膜；将所述单层分子膜在待镀基板表面形成薄膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 方法 装置 显示器 | ||
【主权项】：
一种镀膜的方法，其特征在于，该方法包括：在溶液槽的底部设置下基板，并在其上方设置上基板，将待镀基板吸附于上基板上，且待镀基板面向溶液槽；在溶液槽中加入待镀物的溶液，其中包括用于形成单层分子膜的待镀离子；在下基板和上基板上同时施加外场作用力，使得所述溶液中的待镀离子形成单层分子膜；将所述单层分子膜在待镀基板表面形成薄膜层。
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