[发明专利]用于化学气相沉积的反应装置及反应制作工艺有效
申请号: | 201310292652.2 | 申请日: | 2013-07-12 |
公开(公告)号: | CN104233230A | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 潘益宗;杨慕震 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种用于化学气相沉积的反应装置及反应制作工艺,反应装置包括一反应室、一托盘、一进气管单元以及一排气管。托盘配置于反应室中。进气管单元包括多个进料口,此些进料口水平朝向托盘的周围区域,以输入至少一反应气体至反应室,此至少一反应气体被引导由托盘的周围区域沿着其表面移动至托盘的中央。排气管包括一出料口,出料口的位置对应于托盘的中央,以将流动至托盘的中央的反应气体排出于反应室。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 反应 装置 制作 工艺 | ||
【主权项】:
一种用于化学气相沉积的反应装置,包括:反应室;托盘,配置于该反应室中;进气管单元,包括至少一个进料口,该进料口水平朝向该托盘的周围区域,以输入至少一反应气体至该反应室,该至少一反应气体被引导由该托盘的周围区域沿着其表面移动至该托盘的中央;以及排气管,包括一出料口,该出料口的位置对应于该托盘的中央,以将流动至该托盘的中央的气体排出于该反应室。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的