[发明专利]大型浸没式环抛机有效
申请号: | 201310293836.0 | 申请日: | 2013-07-12 |
公开(公告)号: | CN103372805A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 顿爱欢;顾建勋;陈国凯;吴福林;张宝安;徐学科 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种大型浸没式环抛机,主要包括大理石抛光盘和抛光胶盘、大型储液槽、抛光液储液罐、磁力搅拌器、电泵、抛光液过滤设备、喷嘴装置等,抛光液储液罐中有磁力搅拌器持续搅拌,抛光液过滤设备采用多层过滤膜式过滤装置,可以根据需要多层分级过滤。本发明实现了大型环抛机的浸没式抛光加工,温度平衡性好,降低了由于抛光温度不均匀性带来的抛光面形误差,有利于提高大口径平面光学元件的面形精度和表面粗糙度,并能够有效的控制工件的表面疵病。另外,该浸没式抛光机采用抛光液循环利用方式,可以大大降低抛光液的损耗,减小了加工成本。 | ||
搜索关键词: | 大型 浸没 式环抛机 | ||
【主权项】:
一种大型浸没式环抛机,其特征在于该环抛机包括一个由电机(1)驱动的大理石抛光盘(5)和一个储液槽(8),该储液槽(8)为环形槽,该环形槽的内侧圆周通过紧固螺钉固定在大理石抛光盘(5)的外侧边缘的圆周上,在所述的大理石抛光盘的上表面浇注一层均匀的抛光胶盘(9),在该抛光胶盘(9)上放置一块圆形的玻璃校正盘(10),所述的抛光胶盘(9)和玻璃校正盘(10)均置于储液槽(8)中;所述的储液槽(8)内供抛光液储存并在边缘挡板上标有精确刻度以精确控制注入的抛光液深度;该储液槽(8)的底部设有出液管经第一开关(7)通向回收槽(4);该回收槽(4)呈环状位于所述的大理石抛光盘(5)的周围,该回收槽(4)底部设有两个出液管,其中第一出液管经第二开关(3)通向废液罐(2),第二出液管经第三开关(6)通向回收罐(18),该回收罐(18)中设有第一磁力搅拌器(19),该回收罐(18)通过管道经第四开关(17)与抛光液过滤设备(16)相通,该回收罐(18)中搅拌均匀的抛光液在压力泵(20)的作用下经第四开关(17)进入所述的抛光液过滤设备(16),压力泵(20)的功率由功率调节器(21)控制;所述的抛光液过滤设备(16)通过管道经第五开关(14)、具有第二磁力搅拌器(25)的搅拌槽(13)和设置在抛光胶盘上的喷嘴装置(11)相连,在所述的管道上在搅拌槽(13)和设置在抛光胶盘上的喷嘴装置(11)之间设有流量计(12)。
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