[发明专利]制造场截止型绝缘栅双极晶体管的方法在审

专利信息
申请号: 201310295844.9 申请日: 2013-07-15
公开(公告)号: CN104299900A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 王万礼;王根毅;芮强;黄璇 申请(专利权)人: 无锡华润上华半导体有限公司
主分类号: H01L21/331 分类号: H01L21/331
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 邓云鹏
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种场截止型绝缘栅双极晶体管器件的制备方法,在衬底上外延生长形成重掺杂的N型外延层作为场截止层,接着在场截止层注入N型杂质,然后外延生长形成轻掺杂的N型外延层作为耐压层,接着进行常规正面工艺,然后进行背面减薄工艺,接着在背部注入P型杂质并退火形成P型集电区,然后进行常规背面金属化工艺。采用本方法,生产周期较短,且不需要昂贵的高能离子注入设备和激光退火设备,可以按器件需求控制场截止层厚度和杂质浓度,并使减薄工艺难度降低,既提高了器件性能,也降低了工艺难度。本方法对衬底选取较自由,可选择成本较低的衬底。
搜索关键词: 制造 截止 绝缘 双极晶体管 方法
【主权项】:
一种制造场截止型绝缘栅双极晶体管的方法,包括下列步骤:提供衬底;在所述衬底正面外延生长形成重掺杂的N型外延层,作为场截止层;在所述场截止层注入N型杂质;在所述场截止层上外延生长形成轻掺杂的N型外延层,作为耐压层;在所述耐压层上制造所述场截止型绝缘栅双极晶体管的正面结构;将所述衬底自背面开始进行减薄处理;自所述减薄后的衬底背面进行P型离子注入并退火;对所述衬底背面进行背面金属化。
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