[发明专利]光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法在审
| 申请号： | 201310299004.X | 申请日： | 2013-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN103676495A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 高野祥司;松田文彦;成泽嘉彦 | 申请（专利权）人： | 日本梅克特隆株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00 |
| 代理公司： | 上海音科专利商标代理有限公司 31267 | 代理人： | 张成新 |
| 地址： | 日本东京都港*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供能够提高电路板与分别配置于电路板的表面和背面上的光掩模之间的对位精度的光掩模；本发明的光掩模(70)具备：描绘图形(73)，其形成于光掩模(70)的与电路板(P)相对置的一面上且用于进行曝光；第一对位标记(TM1)，其设置于一面中的、在保持电路板(P)时与电路板(P)相对置且未形成有描绘图形(73)的部位上，并且用于与形成于电路板(P)上的电路板侧标记(P5)进行对位；以及第二对位标记(TM2)，其设置于在保持电路板(P)时不与该电路板(P)相对置的部位上，并且用于与设置于另一光掩模(70)上的第三对位标记(TM3)进行对位。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 模组 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种光掩模，其特征在于，具备：描绘图形，其形成于所述光掩模的与电路板相对置的一面上且用于进行曝光；第一对位标记，其设置于所述一面中的、在保持所述电路板时与所述电路板相对置且未形成有所述描绘图形的部位上，并且用于与形成于所述电路板上的电路板侧标记进行对位；以及第二对位标记，其设置于在保持所述电路板时不与所述电路板相对置的部位上，并且用于与设置于另一光掩模上的第三对位标记进行对位。
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