[发明专利]阻变存储器及其操作方法和制造方法有效

专利信息
申请号: 201310302371.0 申请日: 2013-07-15
公开(公告)号: CN103390629A 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 康晋锋;张飞飞;高滨;陈冰;刘力锋;刘晓彦 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吕雁葭
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 提供了一种阻变存储器,包括存储阵列,所述存储阵列包括:衬底;衬底隔离层,设置在衬底上;多个叠层结构,设置在衬底隔离层上;多个梳状金属层,沿所述叠层结构的长度方向设置在衬底隔离层和所述多个叠层结构上,每个梳状金属层的梳齿夹在相邻的叠层结构之间;以及多个阻变材料层,每个阻变材料层形成在相应的一个梳状金属层与所述衬底隔离层之间以及所述相应的一个梳状金属层与所述多个叠层结构之间。还提供了该阻变存储器的操作方法和制造方法。
搜索关键词: 存储器 及其 操作方法 制造 方法
【主权项】:
一种阻变存储器,包括存储阵列,所述存储阵列包括:衬底;衬底隔离层,设置在衬底上;多个叠层结构,设置在衬底隔离层上;多个梳状金属层,沿所述叠层结构的长度方向设置在衬底隔离层和所述多个叠层结构上,每个梳状金属层的梳齿夹在相邻的叠层结构之间;以及多个阻变材料层,每个阻变材料层形成在相应的一个梳状金属层与所述衬底隔离层之间以及所述相应的一个梳状金属层与所述多个叠层结构之间。
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