[发明专利]缺陷检查方法及缺陷检查装置有效
| 申请号： | 201310303081.8 | 申请日： | 2013-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN103575737A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 江川弘一;中田雅博 | 申请（专利权）人： | 欧姆龙株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/01 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 朴海今;向勇 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种缺陷检查方法及缺陷检查装置，其课题在于提高缺陷的检测精度。缺陷检查方法包括：照射工序，从光源向被检查物照射可见光和不可见光；数据生成工序，分别接收由被检查物反射或透过被检查物的可见光和不可见光，并根据各受光量分别生成拍摄数据；判定工序，当比较可见光和不可见光下的、在拍摄数据的变动区域的该拍摄数据的变动程度而得的结果属于预先存储的成为缺陷的范围内时，判定为缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 检查 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种缺陷检查方法，包括：照射工序，从光源向被检查物照射可见光和不可见光；数据生成工序，分别接收由被检查物反射或透过被检查物的可见光和不可见光，并根据各受光量分别生成拍摄数据；判定工序，当比较可见光和不可见光下的、在所述拍摄数据的变动区域的该拍摄数据的变动程度而得的结果属于预先存储的成为缺陷的范围内时，判定为缺陷。
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