[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201310311215.0 申请日: 2013-07-23
公开(公告)号: CN103412449A 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 姜清华;李小和;刘永;邵贤杰;李红敏 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及显示技术领域,特别涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置,以解决TFT-LCD在相邻像素单元的第一金属层与第二金属层之间的错位量不同时会存在画面品质不良的问题。本发明实施例提供一种阵列基板,包括TFT,TFT包括源极、栅极和漏极,栅极位于第一金属层,源极和漏极位于第二金属层;在所述第一金属层与第二金属层之间产生错位的情况下,所述源极和栅极的交叠面积恒定不变。本发明实施例在一定程度上避免或减少了画面品质不良问题的发生。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括薄膜晶体管TFT,所述TFT包括源极、栅极和漏极,所述栅极位于第一金属层,所述源极和漏极位于第二金属层,其特征在于,所述源极和栅极的形状满足:在所述第一金属层与第二金属层之间产生错位的情况下,所述源极和栅极的交叠面积恒定不变。
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