[发明专利]接面能障肖特基二极管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310311338.4 申请日: 2013-07-23
公开(公告)号: CN104347732A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 黄宗义;廖文毅 申请(专利权)人: 立锜科技股份有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L29/47;H01L21/329;H01L21/28;H01L29/45
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 陈肖梅;谢丽娜
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提出一种接面能障肖特基(junction barrier Schottky,JBS)二极管及其制造方法。JBS二极管包含:N型氮化镓(gallium nitride,GaN)基板,具有上表面;氮化铝镓(aluminum gallium nitride,AlGaN)阻障层,形成于上表面上;P型氮化镓(gallium nitride,GaN)层,形成于氮化铝镓阻障层上;阳极导电层,形成于氮化铝镓阻障层上,且部分阳极导电层与氮化铝镓阻障层,形成肖特基接触;以及阴极导电层,形成于上表面上,并与N型氮化镓基板间,形成欧姆接触,且阴极导电层与阳极导电层不直接连接。
搜索关键词: 接面能障肖特基 二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
一种接面能障肖特基二极管,其特征在于,包含:一N型氮化镓基板,具有一上表面;一氮化铝镓阻障层,形成于该上表面上;一P型氮化镓层,形成于该N型氮化镓基板上;一阳极导电层,形成于该氮化铝镓阻障层上,且部分该阳极导电层与该氮化铝镓阻障层,形成肖特基接触;以及一阴极导电层,形成于该上表面上,并与该N型氮化镓基板间,形成一欧姆接触,且该阴极导电层与该阳极导电层不直接连接。
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