[发明专利]一种基于石墨烯的可饱和吸收镜及制造方法有效
申请号: | 201310312487.2 | 申请日: | 2013-07-23 |
公开(公告)号: | CN103368058A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 义理林;郑燃;李伟雄;胡卫生 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01S3/11 | 分类号: | H01S3/11;G02F1/35;B82Y20/00 |
代理公司: | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人: | 郑立 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于石墨烯的可饱和吸收镜及制造方法,在大面积基底上生长石墨烯,然后在石墨烯表面镀二氧化硅保护层,再切割成小片,将平整的光纤端面与小片上镀有二氧化硅的一面平整对接,最后将光纤与小片固定并封装在一起,制造出一种新型的基于石墨烯的可饱和吸收镜。石墨烯作为饱和吸收体,具有饱和强度低、超快速的恢复时间、调制深度可调、与波长无关等优点。制备过程对石墨烯无任何破坏,保持了完整的化学结构,镀二氧化硅保护层防止了石墨烯破损与氧化,同时起到了减少杂质反射的作用,封装后不受外界环境影响,结合这种吸收镜所特有的简单易行的结构优势,本发明提供的制造方法简单高效、成本低廉,能实现大规模产业化。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 石墨 饱和 吸收 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法,其特征在于在,包括以下步骤:(1)在10cm*10cm的大面积基底上生长石墨烯;(2)在所述石墨烯表面镀一层二氧化硅保护层,得到基底‑石墨烯‑二氧化硅层;(3)将所述基底‑石墨烯‑二氧化硅层切割成2mm*2mm的小片;(4)将光纤端面打磨平整后与所述小片上镀二氧化硅的一面平整对接,并将所述光纤端面与所述小片固定并封装在一起。
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