[发明专利]一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310313397.5 申请日: 2013-07-25
公开(公告)号: CN103364846A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 蔡轩臣 申请(专利权)人: 新沂市东方硕华光学材料有限公司
主分类号: G02B1/04 分类号: G02B1/04;G02B1/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 221400 江苏省徐*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的制备方法,该方法属于石英再加工领域,本发明产品以加工人造水晶产生的废石英颗粒为主要原料,以高纯水为辅料,以磁选机、水洗机、真空脱羟炉、水选机、浮选机、超声清洗机、脱水机、烘干机、包装机为设备,通过对加工人造水晶产生的废石英颗粒的磁选、水洗、脱羟、水选、浮选、超声清洗、脱水、烘干、包装后得到成品。产品主要作为眼镜、手机屏幕、显示设备、及滤光片的光学镀膜材料使用,镀膜具有熔点高、比重大、高折射率和高机械强度的优点。
搜索关键词: 一种 高纯 光学 镀膜 材料 二氧化硅 制备 方法
【主权项】:
一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的制备方法,其使用的原料包括:加工人造水晶产生的废石英颗粒、高纯水;其特征是:步骤(1)将加工人造水晶产生的废石英颗粒送入磁选机,反复通过磁选机三次,让磁选机中强大的磁场将废石英颗粒中含金属的颗粒吸附并排出;步骤(2)将去除含金属的石英颗粒后剩余的石英颗粒送入水洗机,用高纯水清洗并除去漂浮物;步骤(3)将清洗后的石英颗粒送入真空脱羟炉,加热至1040‑1060℃,保温脱羟5.5‑6.5小时,然后进行人工分拣,去除变色和尖长的石英颗粒;步骤(4)将脱羟后的石英颗粒送入水检机,水检的目的是去除石英颗粒中的不透明颗粒,然后送入浮选机,浮选去除石英颗粒中的漂浮物和杂质;步骤(5)将去杂的石英颗粒送入超声清洗机,加入高纯水,放入超声波,将超声清洗机中温度升高至48‑52℃,使用超声加水清洗18‑22分钟;步骤(6)将超声清洗后的石英颗粒送入脱水桶用专用脱水袋脱去水分后送入无尘烘箱,在290‑310℃的温度下烘干6‑7小时后烘干结束,随即送入真空包装机包装即得成品。
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