[发明专利]磁场调节装置及等离子体加工设备有效
| 申请号： | 201310316327.5 | 申请日： | 2013-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN104342621B | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 师帅涛 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁场调节装置及等离子体加工设备，磁场调节装置通过调节在反应腔室内产生的磁场分布而使反应腔室内的等离子体分布均匀，其包括多个可产生磁场的环体，每个环体环绕在反应腔室的侧壁外侧；并且，所述多个环体沿反应腔室的水平方向上的数量为至少两个，和/或，沿反应腔室的竖直方向上的数量为至少两个。本发明提供的磁场调节装置，其可以灵活地控制等离子体在反应腔室内的分布，从而可以提高等离子体分布的均匀性，进而可以提高工艺均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场 调节 装置 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种磁场调节装置，其通过调节在反应腔室内产生的磁场分布而使反应腔室内的等离子体分布均匀，其特征在于，所述磁场调节装置包括多个可产生磁场的环体，每个环体环绕设置在所述反应腔室的侧壁外侧，每个所述环体包括多个磁体，所述多个磁体沿所述反应腔室的周向间隔设置；并且，所述多个环体沿反应腔室的水平方向上的数量为至少两个，和/或，沿反应腔室的竖直方向上的数量为至少两个，通过改变每个所述环体中的磁体的磁极、数量和位置来改变所述环体形成的磁场分布。
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