[发明专利]掩模版固定装置及方法在审
| 申请号： | 201310321165.4 | 申请日： | 2013-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN104345572A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 江旭初 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模版固定装置及方法，该装置包括具有若干凸台的承版台、若干刚性柱以及若干柔性装置，每个凸台具有一真空腔，真空腔内设有所述刚性柱和柔性装置，刚性柱的上表面和所述凸台的掩模吸附面共面，在真空开启前，所述柔性装置的上表面处于比掩模吸附面高的放松状态，在真空开启后，柔性装置的上表面受到掩模版的挤压压缩至所述掩模吸附面的高度。本发明通过在真空腔内设置柔性装置，可以使得在上下版时，掩模版和承版台之间的真空得到完全释放，减小掩模版与承版台之间的摩擦力，从而提高掩模版和承版台在上下版时的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 固定 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种掩模版固定装置，其特征在于，包括具有若干凸台的承版台、若干刚性柱以及若干柔性装置，每个凸台具有一真空腔，所述真空腔内设有所述刚性柱和柔性装置，所述刚性柱的上表面和所述凸台的掩模吸附面共面，在真空开启前，所述柔性装置的上表面处于比所述掩模吸附面高的放松状态，在真空开启后，所述柔性装置的上表面受到掩模版的挤压压缩至所述掩模吸附面的高度。
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