[发明专利]一种阵列基板及其制作方法有效
| 申请号： | 201310323825.2 | 申请日： | 2013-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN103412419A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 郭建 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法，涉及显示技术领域，解决了现有的阵列基板检测区的检测结果无法反应真实的显示区域的薄膜晶体管的特性的问题。一种阵列基板，包括显示区域和周边区域，其中，显示区域包括多个用于显示的第一像素单元；周边区域包括检测区，在所述检测区设置有用于检测的第二像素单元，每一像素单元对应设置有薄膜晶体管，所述周边区域还包括环绕所述检测区的分隔区，所述分隔区用于使得检测区的薄膜晶体管的特性均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括显示区域和周边区域，其中，显示区域包括多个用于显示的第一像素单元；周边区域包括检测区，在所述检测区设置有用于检测的第二像素单元，每一像素单元对应设置有薄膜晶体管，其特征在于，所述周边区域还包括环绕所述检测区的分隔区，所述分隔区用于使得检测区的第二像素单元的薄膜晶体管的特性均匀。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司，未经北京京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310323825.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：检测系统
- 下一篇：带有图案的塑料眼镜框架及其制造工艺
