[发明专利]发光装置在审

专利信息
申请号: 201310328799.2 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN103682068A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 尹汝赞;郑在桓;严允植;许起绿;金镇成 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李春晖;李德山
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 公开了一种发光装置和具有该发光装置的照明系统。该发光装置包括:主体,其包括第一侧面部分和第二侧面部分、第三侧面部分和第四侧面部分,以及腔;向主体的第一侧面部分延伸的第一引线框架;向主体的第二侧面部分延伸的第二引线框架;第一和第二引线框架之间的间隙部分;以及腔内的模塑组件。第一引线框架包括具有第一深度的第一凹陷部分、以及在与主体的第一侧面部分相邻的区域中以第二深度凹陷的第二凹陷部分,并且第一凹陷部分的第一深度与第二凹陷部分的第二深度不同。
搜索关键词: 发光 装置
【主权项】:
一种发光装置,包括:主体,其包括彼此相对的第一侧面部分和第二侧面部分、彼此相对的第三侧面部分和第四侧面部分、以及具有开放的上部的腔;第一引线框架,其被布置在所述腔的下表面上,并且向所述主体的所述第一侧面部分延伸;第二引线框架,其被布置在所述腔的下表面上,并且向所述主体的所述第二侧面部分延伸;间隙部分,其被布置在所述第一引线框架和所述第二引线框架之间;以及模塑组件,其在所述腔内;其中,所述第一引线框架包括第一凹陷部分和第二凹陷部分,其中所述第一凹陷部分以第一深度从所述间隙部分向所述主体的所述第一侧面部分凹陷,所述第二凹陷部分以第二深度在与所述主体的所述第一侧面部分相邻的区域内凹陷;所述第一凹陷部分的所述第一深度与所述第二凹陷部分的所述第二深度不同;所述腔包括第一内表面和第二内表面,其中所述第一内表面与发光芯片相邻,所述第二内表面以大于所述第一内表面与所述发光芯片之间的间隔的间隔与所述发光芯片间隔开,并且与所述第一内表面相对布置;并且所述第二内表面的宽度小于所述第一内表面的宽度以及所述发光芯片的至少一个侧面的宽度。
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