[发明专利]用于沉积的掩模和对准它的方法在审

专利信息
申请号: 201310328944.7 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN103572246A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 洪宰敏;朴商赫;郑祐永;权昰娜;姜锡昊;李政烈 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: C23C16/04 分类号: C23C16/04;H01L51/56
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 康泉;王珍仙
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 根据本发明的用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模包含具有贯穿地形成的掩模对准标记的掩模元件,以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记;和在所述掩模元件的一个表面上形成的不平整区域,以邻近所述掩模对准标记,所述不平整区域在它的表面具有突起和凹陷。根据本发明的实施方式,可通过增加形成在基板和掩模上的对准标记的识别率,而防止掩模对准中发生的偏差。结果,可通过降低有机发光二极管(OLED)显示装置的次品率而降低制造成本。
搜索关键词: 用于 沉积 对准 方法
【主权项】:
一种用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模,包含:具有掩模对准标记的掩模元件,所述掩模对准标记贯穿地形成,以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记;和不平整区域,所述不平整区域形成在所述掩模元件的一个表面上,以邻近所述掩模对准标记,所述不平整区域的表面包含突起和凹陷。
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