[发明专利]用于沉积工艺的反应腔室及其中托盘温度的调节方法

摘要

本发明提供了一种用于沉积工艺的反应腔室，包括：托盘；加热器；进气单元；温度探测器，用于检测托盘或衬底的温度；位移装置，用于基于所述温度探测器检测的温度和目标温度之间的差值，调整进气单元与托盘之间的距离，实现对托盘或衬底的温度快速调整控制的目的。本发明还提供了一种反应腔室中托盘温度的调节方法。本发明通过调整托盘与进气单元之间的距离，可以调整进气单元上的冷却单元从托盘吸收热量的多少，便于更快速有效的升高或降低托盘或托盘上的衬底的温度。

主权项

一种用于沉积工艺的反应腔室，其特征在于，包括：托盘，用于承载衬底；加热器，用于通过加热托盘对托盘上放置的衬底进行加热；进气单元，设置在所述托盘的远离所述加热器的一侧，所述进气单元包括冷却腔室，所述冷却腔室内填充有冷却介质，所述冷却介质对进气单元进行冷却；温度探测器，用于检测托盘或衬底的温度；位移装置，用于基于所述温度探测器检测的温度和目标温度之间的差值，调整进气单元与托盘之间的距离。