[发明专利]一种利用可重复使用的衬底制备多晶硅薄膜的方法

摘要

本发明公开了属于多晶硅薄膜技术领域的一种利用可重复使用的衬底制备多晶硅薄膜的方法。在涂覆石墨薄膜的陶瓷板上，沉积多晶硅薄膜，采用退火方法分离多晶硅薄膜与衬底，制备出多晶硅薄膜。陶瓷板经涂覆石墨薄膜后可重复沉积多晶硅薄膜。本发明方法选用高质量的陶瓷板作为衬底，将多晶体硅薄膜从衬底上分离，可重复利用优质衬底；大大降低了太阳电池制备成本，优化了生产工艺。同时克服了由于廉价衬底带来的杂质扩散，衬底与薄膜的不匹配，薄膜中高缺陷密度等缺点，可以减小沉积或结晶时多晶硅薄膜的应力，多晶硅薄膜的质量也将提高。

主权项

一种利用可重复使用的衬底制备多晶硅薄膜的方法，其特征在于：步骤如下：步骤1：以陶瓷板为衬底；步骤2：在衬底上涂覆石墨薄膜，石墨薄膜的厚度为1‑10微米；步骤3：在涂覆石墨薄膜的衬底上采用化学气相沉积方法制备多晶硅薄膜；步骤4：采用退火方法使多晶硅薄膜与衬底分离；步骤5：分离后的陶瓷板衬底用来再重复沉积多晶硅薄膜。