[发明专利]一种等离子体加工设备

摘要

本发明提供一种等离子体加工设备，包括反应腔室、上激励射频功率源、直流功率源以及晶片支撑装置，所述上激励射频功率源用以提供产生等离子体的能量；所述晶片支撑装置设于所述反应腔室内，其包括用于承载晶片的托盘和用于承载所述托盘的卡盘；托盘内设有托盘电极，卡盘内设有卡盘电极，托盘和卡盘相互电绝缘，并与等离子体电绝缘，直流功率源用于在托盘电极与卡盘电极之间以及托盘电极与晶片之间分别产生电压差；并在晶片与托盘电极之间形成第一电容，在托盘电极与卡盘电极之间形成第二电容，第一电容和第二电容并联。该等离子体设备腔室结构，不仅性能良好，可靠性高，而且结构简单，成本低廉。

主权项

一种等离子体加工设备，包括反应腔室、上激励射频功率源、直流功率源以及晶片支撑装置，所述上激励射频功率源用以提供产生等离子体的能量；所述晶片支撑装置设于所述反应腔室内，其包括用于承载晶片的托盘和用于承载所述托盘的卡盘；其特征在于，所述托盘内设有托盘电极，所述卡盘内设有卡盘电极，所述托盘和所述卡盘相互电绝缘，并与等离子体电绝缘，所述直流功率源用以在所述托盘电极与所述卡盘电极之间以及所述托盘电极与所述晶片之间分别产生电压差；并在所述晶片与所述托盘电极之间形成第一电容，在所述托盘电极与所述卡盘电极之间形成第二电容，所述第一电容和所述第二电容并联。