[发明专利]一种能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料在审

专利信息
申请号: 201310343887.X 申请日: 2013-08-06
公开(公告)号: CN103456388A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 柴良;冯纪伟;杨至灏 申请(专利权)人: 浙江光达电子科技有限公司
主分类号: H01B3/10 分类号: H01B3/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 325000 浙江省温*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料,由包括以下重量百分比的原料制成:三氧化二铝粉末40-90,玻璃粉0.1-10,无机添加剂0.1-10,有机载体9.8-50,本发明的厚膜浆料能够形成更稳定的绝缘层,浆料中的有机载体是在丝网印刷过程中用作载体,进而将浆料中的无机部分沉积在硅基板上,有机载体在后续的烧结工艺中被去除,形成三氧化二铝,能够提高电池片的转化效率。
搜索关键词: 一种 能够 太阳能 硅片 生成 绝缘 浆料
【主权项】:
一种能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料,其特征在于,由包括以下重量百分比的原料制成:三氧化二铝粉末40‑90,玻璃粉0.1‑10,无机添加剂0.1‑10,有机载体9.8‑50。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江光达电子科技有限公司,未经浙江光达电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310343887.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top