[发明专利]波导结构及其制造方法在审
| 申请号： | 201310346904.5 | 申请日： | 2013-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN104216046A | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 曾俊豪;郭英颢;陈海清;包天一 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/13;G02B6/42 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了形成波导结构的实施例。波导结构包括衬底，并且衬底具有互连区域和波导区域。波导结构还包括形成在衬底中的沟槽，并且沟槽具有倾斜的侧壁表面和基本平坦的底部。波导结构还包括形成在衬底上的底部覆层，并且底部覆层自互连区域延伸至波导区域，底部覆层充当互连区域中的绝缘层。波导结构还包括形成在倾斜的侧壁表面上的底部覆层上的金属层。本发明还提供了该波导结构的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种波导结构，包括：衬底，所述衬底具有互连区域和波导区域；沟槽，形成在所述衬底中，所述沟槽具有倾斜的侧壁表面和基本平坦的底部；底部覆层，形成在所述衬底上，所述底部覆层从所述互连区域延伸至所述波导区域，并且所述底部覆层充当所述互连区域中的绝缘层；以及金属层，形成在所述倾斜的侧壁表面上的所述底部覆层上。
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