[发明专利]一种超高密度热辅助磁记录用FeRh/FePt双层薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310349750.5 申请日: 2013-08-13
公开(公告)号: CN103440875A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 陆伟;黄平 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84;G11B5/851
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 张磊
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种超高密度热辅助磁记录用FeRh/FePt双层薄膜及其制备方法,所述薄膜由铁磁性高各项异性L10有序结构的FePt合金薄膜和有B2有序结构的FeRh合金薄膜组成;具体为:利用磁控溅射技术在单晶MgO(001)基板上沉积FeRh合金薄膜,溅射,退火,利用磁控溅射技术继续在沉积有FeRh薄膜的单晶MgO(001)基板上沉积FePt合金薄膜,本发明具有制备简单、性能好等优点,适合应用于具有外延取向的FeRh/FePt合金薄膜的制备。
搜索关键词: 一种 超高 密度 辅助 记录 ferh fept 双层 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种超高密度热辅助磁记录用FeRh/FePt双层薄膜,所述薄膜第一层为铁磁性高各项异性L10有序结构的FePt合金薄膜,第二层为具有B2有序结构的FeRh合金薄膜;两层薄膜之间通过交换耦合相互作用在一起,FeRh合金薄膜中Fe、Rh原子比为1:1,FeRh薄膜厚度为10nm~50nm;FePt合金薄膜中Fe、Pt原子比为1:1,FePt薄膜厚度为10nm~50nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310349750.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top