[发明专利]内掩式透射地基日冕仪成像系统无效
| 申请号： | 201310353830.8 | 申请日： | 2013-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN103389578A | 公开（公告）日： | 2013-11-13 |
| 发明（设计）人： | 马俊林;张红鑫;卢振武;卜和阳;孙明哲 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 内掩式透射地基日冕仪成像系统属于日地空间领域，目的在于解决现有技术存在的杂散光难以抑制的问题。本发明包括按照太阳光入射镜筒后的先后顺序安装在镜筒内的光轴上的入射口径光阑、物镜、内掩体、场镜、Lyot光阑、Lyot斑和中继镜组；入射口径光阑位于所述物镜第一表面位置，內掩体位于物镜的成像焦面位置，Lyot光阑位于入射孔径光阑经过物镜的成像焦面位置，Lyot斑位于场镜的成像焦面位置；太阳光束经物镜聚焦后经内掩体遮蔽太阳光球层的阳光，得到的光束经场镜和中继镜组成像在像面CCD上。本发明设置有内掩体和Lyot斑，实现对鬼像的有效遮拦，进一步提高透射式日冕仪的杂散光抑制能力，从而用来对太阳日冕进行观测。 | ||
| 搜索关键词： | 内掩式 透射 地基 日冕 成像 系统 | ||
【主权项】：
内掩式透射地基日冕仪成像系统，其特征在于，包括按照太阳光入射镜筒（1）后的先后顺序安装在镜筒（1）内的光轴上的入射口径光阑（2）、物镜（3）、内掩体（4）、场镜（5）、Lyot光阑（7）、Lyot斑（6）和中继镜组（8）；所述入射口径光阑（2）位于所述物镜（3）第一表面位置，所述內掩体位于所述物镜（3）的成像焦面位置，Lyot光阑（7）位于入射孔径光阑经过物镜（3）的成像焦面位置，所述Lyot斑（6）位于场镜（5）的成像焦面位置；太阳光束经物镜（3）聚焦后经内掩体（4）遮蔽太阳光球层的阳光，得到的光束经场镜（5）和中继镜组（8）成像在像面CCD（9）上。
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