[发明专利]一种基于表面等离子体共振的金属薄膜表面色散调制方法在审
| 申请号： | 201310354818.9 | 申请日： | 2013-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN103424791A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 江素华;刘哲郡 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于金属表面图形化技术领域，具体涉及一种基于表面等离子体共振的金属薄膜表面色散调制方法。本发明利用不同组分配比的合金薄膜介电常数的不同导致表面等离子体共振峰位随合金成分变化这一特点，实现了金属薄膜的色散特性的自由调节，是一种新型的非图形加工方法的表面色散调控的技术。合金薄膜的制备使用了磁控溅射双靶共溅射的方法，可灵活应用于各类光学器件衬底，具有很强的兼容性，成本低且较易获得。该方法可避免现行以金属薄膜图形化为主要方法的表面色散调控所带来的散射损耗，加工成本高，难度高等缺点，提高基于表面等离子体共振器件的灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 表面 等离子体 共振 金属 薄膜 色散 调制 方法 | ||
【主权项】：
一种基于表面等离子体共振的金属薄膜表面色散调制方法，其特征在于具体步骤如下：（1）清洗衬底；（2）采用磁控溅射法制备合金薄膜，将经清洗的衬底材料放入磁控溅射仪中，使用金银双靶共溅射，通过改变靶电流对合金薄膜组分质量配比进行调制，获得具有不同介电常数的合金薄膜，合金薄膜厚度为30~80nm；（3）将制备出的合金薄膜与三棱镜组合，置于椭偏仪光路中，通过改变入射光波长及入射角测量薄膜的反射谱，观察到合金薄膜表面等离子体共振峰位被合金组分调制。
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