[发明专利]离子源以及离子注入装置有效
| 申请号： | 201310365575.9 | 申请日： | 2013-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN104425198B | 公开（公告）日： | 2017-08-08 |
| 发明（设计）人： | 许飞;秦斌;汪东;周智;於鹏飞 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种离子源以及离子注入装置，所述离子源具有真空室，所述真空室包括等离子体形成容器；第一阴极，设置在所述等离子体形成容器的一侧面，用于放出电子；第一旁热式阴极，所述第一阴极放出的电子碰撞所述第一旁热式阴极后，进入所述等离子体形成容器；第二阴极，设置在与所述第一阴极相对的所述等离子体形成容器的侧面，用于放出电子；第二旁热式阴极，所述第二阴极放出的电子碰撞所述第二旁热式阴极后，进入所述等离子体形成容器。本发明的离子源，当所述第一阴极或第二阴极损坏时，只需改变所述第一阴极和第二阴极的通电方式，就可以使所述离子源继续产生等离子体，避免打开真空室进行维护，从而提高产能。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 以及 离子 注入 装置 | ||
【主权项】：
一种离子源，所述离子源具有一真空室，所述真空室包括一等离子体形成容器，所述等离子体形成容器包括：两个相对的侧面；第一阴极，设置在所述等离子体形成容器的一侧面中，用于放出电子；第一旁热式阴极，所述第一阴极放出的电子碰撞所述第一旁热式阴极后，进入所述等离子体形成容器；第二阴极，设置在所述等离子体形成容器的另一侧面中，用于放出电子；第二旁热式阴极，所述第二阴极放出的电子碰撞所述第二旁热式阴极后，进入所述等离子体形成容器；当所述第一旁热式阴极放出电子时，所述第二阴极不通电，所述第二旁热式阴极反射电子；当所述第二旁热式阴极放出电子时，所述第一阴极不通电，所述第一旁热式阴极反射电子。
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