[发明专利]用于低温检测H2的Pd掺杂SnO2纳米线气体传感器及制备方法无效

专利信息
申请号: 201310366247.0 申请日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN103412008A 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 沈岩柏;魏德洲;刘文刚;高淑玲;韩聪;崔宝玉 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12;B81C1/00
代理公司: 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人: 梁焱
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于半导体氧化物气体传感器技术领域,具体涉及一种用于低温检测H2的Pd掺杂SnO2纳米线气体传感器及制备方法。本发明包括一个覆有叉指铂金电极的氧化硅基板和气敏感应层,所述的气敏感应层是由Pd掺杂的SnO2纳米线分散而成,其中Pd与SnO2纳米线的质量比为1:(15~468)。其制备方法是首先利用热蒸发法制备SnO2纳米线,然后将SnO2纳米线分散到覆有叉指铂金电极的氧化硅基板上形成SnO2纳米线感应层,再将PdCl2乙醇溶液分散到SnO2纳米线感应层上,于300~400℃的温度下热处理1h,最终获得Pd掺杂SnO2纳米线气体传感器。本发明在低温工作条件下具有优良的气敏特性,可逆性和重现性好,有效的解决了传统气体传感器在低温区域气敏特性较差的不足。
搜索关键词: 用于 低温 检测 sub pd 掺杂 sno 纳米 气体 传感器 制备 方法
【主权项】:
一种用于低温检测H2的Pd掺杂SnO2纳米线气体传感器,包括一个覆有叉指铂金电极的氧化硅基板和气敏感应层,其特征在于所述的气敏感应层是由Pd掺杂的SnO2纳米线分散而成,其中Pd与SnO2纳米线的质量比为1:(15~468)。
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