[发明专利]一种基于磁流变弹性体的抛光方法与装置有效

专利信息
申请号: 201310366332.7 申请日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN103447890A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 汤春瑞;赵灿;刘丹丹 申请(专利权)人: 黑龙江科技大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00
代理公司: 深圳市智科友专利商标事务所 44241 代理人: 曲家彬
地址: 150022 黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种基于磁流变弹性体的抛光方法及装置,旨在克服现有技术中的抛光去除率低、模型不可控制、可靠性低、需要高压的缺点,提供一种基于磁流变弹性体的抛光方法,包括以下步骤:A、将带有磁流变弹性体磨头的刀柄安装在抛光设备的主轴上;B、通过磁场施加装置调节磁流变弹性体磨头附近的磁场,进而调节磁流变弹性体磨头去除率,实现对复杂曲面的程控抛光。还提供一种基于磁流变弹性体的抛光装置,包括:刀柄、磁流变弹性体磨头和磁场施加装置,刀柄一端和磁流变弹性体磨头固定连接,刀柄另一端安装在现有的抛光设备的主轴上,磁场施加装置的电磁铁设置在磁流变弹性体磨头的两侧。本发明可通过磁场调节去除率,适用于零件抛光的环境。
搜索关键词: 一种 基于 流变 弹性体 抛光 方法 装置
【主权项】:
一种基于磁流变弹性体的抛光方法,与现有的抛光设备结合使用,其特征在于,包括以下步骤:A、将带有磁流变弹性体磨头的刀柄安装在抛光设备的主轴上;B、通过磁场施加装置调节磁流变弹性体磨头附近的磁场,使磁流变弹性体磨头的刚度随磁场强度的调节而同趋势变化,进而调节磁流变弹性体磨头去除率,实现对被抛光零件的复杂曲面的程控抛光。
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