[发明专利]高增益的AlGaN紫外雪崩光电探测器及其制备方法无效
申请号: | 201310367175.1 | 申请日: | 2013-08-22 |
公开(公告)号: | CN103400888A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 陈敦军;张荣;郑有炓 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109;H01L31/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210093 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种高增益的AlGaN紫外雪崩光电探测器,其结构从下至上依次为:AlN模板层、AlxGa1-xN缓冲层、n型AlxGa1-xN层、i型AlyGa1-yN吸收层、n型AlyGa1-yN分离层、i型AlyGa1-yN倍增层、p型AlzGa1-zN层、p型GaN层,在n型AlxGa1-xN层上引出n型欧姆电极,在p型GaN层上引出p型欧姆电极,所述x、y、z满足0<z<y<x。还公开了其制备方法。本发明设计的SAM结构高增益的AlGaN紫外雪崩光电探测器,可明显降低APD雪崩击穿时的外加电压和暗电流,有助于提高APD雪崩倍增因子。 | ||
搜索关键词: | 增益 algan 紫外 雪崩 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高增益的AlGaN紫外雪崩光电探测器,其结构从下至上依次为:AlN模板层、AlxGa1‑xN缓冲层、n型AlxGa1‑xN层、i型AlyGa1‑yN吸收层、n型AlyGa1‑yN分离层、i型AlyGa1‑yN倍增层、p型AlzGa1‑zN层、p型GaN层,在n型AlxGa1‑xN层上引出n型欧姆电极,在p型GaN层上引出p型欧姆电极,其特征在于:所述x、y、z满足0<z<y<x。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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