[发明专利]一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶材利用率的方法无效
| 申请号： | 201310379478.5 | 申请日： | 2013-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN103820759A | 公开（公告）日： | 2014-05-28 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;葛承全;张超群;井治;张仰平;李险峰 | 申请（专利权）人： | 中国建材国际工程集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海三方专利事务所 31127 | 代理人： | 吴干权;单大义 |
| 地址： | 200063 上海市普*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁控溅射镀膜生产设备技术领域，具体来说是一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶材利用率的方法，其特征在于靶材经过两次安装，两次溅射，具体方法为：当靶材第一次安装后，经过溅射，刻蚀区域位于靶材的一侧；然后将靶材水平旋转180°再重新安装在阴极上，进行第二次溅射，两次的刻蚀区域恰好连接成一个较大的刻蚀区域。本发明同现有技术相比，将靶材第一次安装后，经过溅射，刻蚀区域位于靶材的一侧，然后将靶材水平旋转180°再重新安装在阴极上，进行第二次溅射，使两次的刻蚀区域恰好连接成一个较大的刻蚀区域，另外，在阴极座外部两侧设有截面为L形的屏蔽罩，屏蔽了靶材上50%以上的区域，提高了靶材的利用率，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 矩形 平面 磁控溅射 阴极 利用率 方法 | ||
【主权项】：
一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶材利用率的方法，所述的矩形平面磁控溅射阴极包括中靶材压条(1)、中压条(2)、边靶材压条(3)、边压条(4)、背板(5)、冷却板(6)、阴极座(7)、支撑块(8)、磁轭（9）、中立柱（10）、中磁铁（11）、中磁靴（12）、边磁铁（13）、边磁靴（14）和靶材（15），其特征在于靶材经过两次安装，两次溅射，具体方法为：当靶材第一次安装后，经过溅射，刻蚀区域位于靶材的一侧；然后将靶材水平旋转180°再重新安装在阴极上，进行第二次溅射，两次的刻蚀区域恰好连接成一个较大的刻蚀区域，提高靶材的利用率。
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