[发明专利]一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法有效
| 申请号： | 201310380360.4 | 申请日： | 2013-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN103488051A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 伊福廷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;B81C1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 100049 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法，该方法采用金属丝网作为基片，并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。利用本发明，采用金属丝网结构能够有效提供PMMA光刻胶与金属丝网从分相互包裹融合，使同步辐射光刻后的PMMA光刻胶柱子结构牢固地与金属丝网结合，不会发生倒塌和脱落，保证了PMMA光刻胶柱子结构具有非常大的高宽比，从而提高了LIGA技术的研究水平。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 liga 技术 光刻 胶膜 复合 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法，其特征在于，该方法采用金属丝网作为基片，并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院高能物理研究所，未经中国科学院高能物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310380360.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：直流电源输出短路自动保护装置
- 下一篇：一种高度变化测量记录装置及应用
