[发明专利]浮动催化剂法选择性生长金属性富集单壁碳纳米管的方法有效

专利信息
申请号: 201310386192.X 申请日: 2013-08-29
公开(公告)号: CN103449405A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 侯鹏翔;李文山;刘畅;成会明;石超 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 张志伟
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及金属性富集单壁碳纳米管的直接、大量、可控制备领域,具体为一种浮动催化剂法选择性生长金属性富集单壁碳纳米管的方法,在直径调控基础上、氢气原位弱刻蚀直接生长金属性富集单壁碳纳米管。以二茂铁等为催化剂前驱体、硫粉为生长促进剂、有机低碳烃为碳源的条件下,通过调节优化催化剂挥发温度、载气氦气/氢气的流量,在一定生长温度下可原位刻蚀掉小直径半导体性单壁碳纳米管,最终获得较大直径、金属性富集的单壁碳纳米管。本发明实现了金属性富集单壁碳纳米管的大量、快捷、低成本控制生长,突破了目前直接生长宏量金属性富集单壁碳纳米管这一瓶颈问题。
搜索关键词: 浮动 催化剂 选择性 生长 金属性 富集 单壁碳 纳米 方法
【主权项】:
一种浮动催化剂法选择性生长金属性富集单壁碳纳米管的方法,其特征在于,以二茂铁、二茂镍或二茂钴为催化剂前驱体、硫粉为生长促进剂、氦气为载气、氢气为刻蚀气体,在温度1000‑1100℃下同时通入碳源气体,并调控氦气/氢气流量进行单壁碳纳米管的生长及原位刻蚀,去除小直径的半导体性单壁碳纳米管,最终获得金属性富集的单壁碳纳米管样品,金属性单壁碳纳米管含量≥60wt%。
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