[发明专利]一种LED芯片电极的制作方法、LED芯片及LED有效
申请号: | 201310386540.3 | 申请日: | 2013-08-29 |
公开(公告)号: | CN103489966A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 刘晶;叶国光 | 申请(专利权)人: | 刘晶 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/14;H01L33/40 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 汤喜友 |
地址: | 529000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种焊线成本低,焊点可靠的LED芯片电极的制作方法,包括在制作好的LED外延片的部分区域上刻蚀P型半导体层、发光层至负N型半导体层,蚀刻显露的N型半导体层形成N型电极区,未被蚀刻的P型半导体区域形成P型电极区;1)在所述P型电极区上需要制作电极的区域镀上于P型半导体层非奥姆接触的第一电极接触层;2)在所述电极接触层上镀上电流阻挡层;3)在P型电极区上,未被上述电极接触层和电流阻挡层覆盖的区域镀上电流扩散层;4)在电流阻挡层上镀上与电流扩散层欧姆接触的金属第二电极接触层;5)在所述第二电极接触层上镀上第三电极接触层;6)在第三电极接触层上采用化学方法镀上材料为金的电极焊线层。 | ||
搜索关键词: | 一种 led 芯片 电极 制作方法 | ||
【主权项】:
一种LED芯片电极的制造方法,包括在衬底上依次生长出N型半导体层,发光层和P型半导体层;在所述P型半导体层上刻蚀部分区域,去除该区域的P型半导体层、发光层至显露负N型半导体层;显露的N型半导体层形成N型电极区,用于制作N型电极,未被蚀刻的P型半导体层形成P型电极区,用于制作P型电极,其特征在于所述P型电极的制作方法包括以下步骤:1)在所述P型电极区上需要制作P型电极的区域镀上与P型半导体层非奥姆接触的第一电极接触层;2)在所述第一电极接触层上镀上电流阻挡层;3)在所述P型电极区上,未被上述第一电极接触层和电流阻挡层覆盖的区域镀上电流扩散层;4)在所述电流阻挡层上镀上与电流扩散层欧姆接触的第二电极接触层;5)在所述第二电极接触层上镀上第三电极接触层;6)在所述第三电极接触层上采用化学方法镀上材料为金的电极焊线层。
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