[发明专利]阵列基板、显示装置及制作阵列基板的方法有效
| 申请号： | 201310389372.3 | 申请日： | 2013-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN103439844A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 马禹 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L23/50 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及阵列基板、显示装置及制作阵列基板的方法，其中一种阵列基板，包括：位于不同层的第一金属连接部和第二金属连接部，还包括用于连接第一金属连接部和第二金属连接部的透明导电膜层；第一金属部与第二金属连接部通过第一绝缘层隔开；第一金属连接部与第二金属连接部在垂直于阵列基板平面的方向上至少部分重叠。本发明的有益效果是：第一金属连接部与第二金属连接部在垂直于基板平面的方向上至少部分重叠，用于连通第一金属连接部、第二金属连接部的透明导电膜层在与衬底基板平行方向上的距离大大缩短，减小了透明导电膜层与第一金属连接部、第二金属连接部接触的接触电阻的大小，减少了透明导电膜层坡面的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 显示装置 制作 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括：位于不同层的第一金属连接部和第二金属连接部，还包括用于连接所述第一金属连接部和第二金属连接部的透明导电膜层；其特征在于，所述第一金属部与所述第二金属连接部通过第一绝缘层隔开；所述第一金属连接部与所述第二金属连接部在垂直于阵列基板平面的方向上至少部分重叠。
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