[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201310390927.6 申请日: 2013-08-30
公开(公告)号: CN103681655A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 山崎舜平;片山雅博;佐藤亚美;岛行德 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张鑫
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的一个方式是提供一种不降低开口率且具有增大了电荷容量的电容元件的半导体装置。半导体装置包括:包括具有透光性的半导体膜的晶体管;在一对电极之间设置有介电膜的电容元件;以及电连接于晶体管的像素电极,其中在电容元件中,与晶体管的具有透光性的半导体膜形成在同一表面上的具有导电性的膜用作一个电极,像素电极用作另一个电极,设置在具有透光性的半导体膜与像素电极之间的氮化绝缘膜及第二氧化绝缘膜用作介电体。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,包括:衬底;所述衬底上的第一绝缘膜;所述第一绝缘膜上的第二绝缘膜;所述第二绝缘膜上的第三绝缘膜;所述第三绝缘膜上的透光像素电极;晶体管,包括:栅电极;所述栅电极上的所述第一绝缘膜;以及所述第一绝缘膜上的重叠于所述栅电极的半导体膜,该半导体膜电连接于所述像素电极;电容元件,包括:所述第一绝缘膜上的用作第一电容电极的能够导电的透光膜;所述第一电容电极上的用作电容介电膜的所述第二绝缘膜的一部分及所述第三绝缘膜的一部分;以及所述电容介电膜上的用作第二电容电极的所述像素电极,其中,所述第二绝缘膜及所述第三绝缘膜覆盖所述半导体膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310390927.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top