[发明专利]原子层沉积装置在审
申请号: | 201310395120.1 | 申请日: | 2013-09-03 |
公开(公告)号: | CN103668110A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 全蓥卓;崔鹤永;申锡润;朴炷泫;咸基热 | 申请(专利权)人: | 丽佳达普株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明的原子层沉积装置,包括供气管和吸气管,该供气管具备:供给管体,在其内部沿长度方向形成有供给气体的供气流道;排气部,沿供给管体的长度方向形成于供给管体,并与供气流道连通;该吸气管具备:吸入管体,在其内部沿长度方向形成有吸入气体的吸气流道;吸气部,沿吸入管体的长度方向形成于吸入管体,并与吸气流道连通;供气管和吸气管可以在与基板对供气管和吸气管的相对运动方向交叉的方向上彼此分开形成。本发明一实施例中的原子层沉积装置,分开形成用于供给源气体或反应气体的供给管和用于吸入除去残留气体的吸气管,从而不仅能够减少气体使用量,减少沉积原子层的基板轨迹,还能够简化实现气体供给及吸入动作的机械结构。 | ||
搜索关键词: | 原子 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种原子层沉积装置,其包括供气管和吸气管,该供气管具备:供给管体,在其内部沿长度方向形成有用于供给气体的供气流道;排气部,沿所述供给管体的长度方向形成于所述供给管体,并与所述供气流道连通;该吸气管具备:吸入管体,在其内部沿长度方向形成有用于吸入气体的吸气流道;吸气部,沿所述吸入管体的长度方向形成于所述吸入管体,并与所述吸气流道连通;所述供气管和所述吸气管在与基板对所述供气管和所述吸气管的相对运动方向交叉的方向上,彼此分开形成。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的