[发明专利]一种泡沫硅反射镜及其制备方法有效
| 申请号： | 201310412181.4 | 申请日： | 2013-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN103728682B | 公开（公告）日： | 2017-02-01 |
| 发明（设计）人： | 陈照峰;聂丽丽 | 申请（专利权）人： | 太仓派欧技术咨询服务有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B1/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种泡沫硅反射镜及其制备方法，其特征在于包括泡沫硅胚体和附着在胚体表面的致密Si涂层。所述的泡沫硅胚体是一种以碳泡沫为基底，表面附着有Si薄膜的开孔泡沫，其中，Si薄膜的厚度为50nm～2μm。在胚体表面附着有致密的Si涂层，涂层厚度为0.5～3mm。反射镜的镜面可以是平面的，也可以是曲面的。一种泡沫硅反射镜的制备方法，其特征在于包括下述顺序的步骤(1)将聚氨酯泡沫热解，制作碳泡沫；(2)将制得的碳泡沫加工一面或多面成需要的镜面结构；(3)制备Si薄膜；(4)表面Si涂层的制备；(5)将表面附着有致密涂层的泡沫硅从硅化炉中取出，用金刚石精加工成所需要的镜面，最终得到一种泡沫硅发射镜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 泡沫 反射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种泡沫硅反射镜，包括泡沫硅胚体和附着在泡沫硅胚体表面的致密Si涂层，其特征在于所述的泡沫硅胚体是一种以碳泡沫为基底，表面附着有厚度为50nm～2μm的Si薄膜的开孔泡沫，内部呈现三维网状结构；所述的Si涂层成致密结构，附着在泡沫硅胚体的表面，厚度为0.5～3mm。
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