[发明专利]包括防沉积单元的薄膜沉积装置及其去除沉积物的方法有效
| 申请号： | 201310412327.5 | 申请日： | 2013-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN103981489B | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 许明洙;金善浩;赵喆来;朱儇佑 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了包括防沉积单元的薄膜沉积装置和该装置的去除沉积物的方法。该方法包括：从薄膜沉积装置的腔室分离包括至少一个防沉积板和耦合到至少一个防沉积板的外表面上的变形单元的防沉积单元；以及从防沉积板去除成膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 沉积 单元 薄膜 装置 及其 去除 沉积物 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜沉积装置，包括：腔室；沉积单元，设置在所述腔室中并且被配置为将原料沉积到基板上；以及防沉积单元，设置在所述腔室中，并且包括至少一个防沉积板和耦合到所述防沉积板的一个表面上的变形单元，所述变形单元包括由于外部应力能量导致变形的材料，其中，所述变形单元包括形状记忆合金，所述变形单元具有线形状并且与所述防沉积板的所述一个表面接触，所述至少一个防沉积板包括第一防沉积板和第二防沉积板，并且，所述变形单元被设置在所述第一防沉积板与所述第二防沉积板的相对的表面之间。
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