[发明专利]微机械压电射流陀螺有效

专利信息
申请号: 201310413653.8 申请日: 2013-09-12
公开(公告)号: CN104457727B 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 朴林华;陈敬波 申请(专利权)人: 北京信息科技大学
主分类号: G01C19/58 分类号: G01C19/58
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100192 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明微机械压电射流陀螺,属于通过微机械加工工艺制作的由压电泵产生射流的陀螺仪。用于机器人、头盔、摄像机等微型载体的稳定系统。本发明由敏感元件、底座、外壳、信号处理电路、绝缘子、垫片组成,电源和信号经底座上玻璃灌装的绝缘子接线引出。敏感元件包括压电陶瓷微泵、射流腔体和Pt薄膜热敏电阻,它是由上下两个硅板键合而成,在上硅板上有振膜、泵室、射流腔体和Pt薄膜热敏电阻,下硅板具有与上硅板对称的结构,但没有Pt薄膜热敏电阻,在下硅板的表面被电极,并与上硅板键合构成密闭的射流腔体。信号处理电路包括压电泵驱动电路、电桥电路、放大电路、滤波电路和补偿电路。
搜索关键词: 微机 压电 射流 陀螺
【主权项】:
一种微机械压电射流陀螺,其特征为该陀螺由底座、外壳组装成腔体、安装腔体内的敏感元件、信号处理电路组成,绝缘子用作电源和信号的引线,电源和信号经底座上玻璃灌装的绝缘子接线引出;所述敏感元件的各部件采用微机械制作工艺成型在硅板内;敏感元件包括有振膜、泵室、气体进口、集流槽、射流喷嘴、射流室、气体出口和铂(Pt)薄膜热敏电阻,振膜制作在硅板边缘,振膜上被覆金属膜电极,振膜以下为泵室,位于泵室近两端处有两个所述气体进口,进口的剖面为倒梯形,两个进口下游是两个剖面为矩形的气体馈送口,将气体馈送给集流槽,集流槽的深度比其他凹槽深,射流室剖面为矩形,位于硅片中部,射流室与集流槽之间有射流喷嘴,射流室的另一端有气体回流泵室的所述气体出口,气体出口位于两气体进口中间,气体出口剖面为正梯形;铂(Pt)薄膜热敏电阻位于射流室顶部,由Si、SiO2和金属铂(Pt)构成的三明治结构,硅板内有金属电极,作为热敏电阻的输出极;压电陶瓷微泵采用压电陶瓷双晶片,在晶片上下两个圆平面被覆金属膜电极,晶片被覆电极后粘接在振膜有金属膜电极的一侧,构成压电陶瓷微泵。
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