[发明专利]一种LED芯片高温混酸腐蚀切割道的方法无效
申请号: | 201310414145.1 | 申请日: | 2013-09-12 |
公开(公告)号: | CN103474341A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 郁彬 | 申请(专利权)人: | 昆山奥德鲁自动化技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/306 | 分类号: | H01L21/306;H01L33/00 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种LED芯片高温混酸腐蚀切割道的方法,首先在将COW成品用丙酮,异丙醇超声清洗干净,同时用清水将去除剩余的化学杂质,然后将COW进行高温烘烤,随后在COW表面沉积高致密性SiO2,接着根据COW表面芯粒之间的切割道,用镭射进行正面切割,同时将浓硫酸和浓磷酸以1:4比例进行混合,并加热至245℃~255℃后,将正划后的COW放置于混酸中进行腐蚀10min后取出,最后用BOE将高温酸腐蚀后的COW表面的SiO2湿法刻蚀干净后,进行劈裂,并按正常LED芯片流程进行作业;本工艺具有操作简单可行,既符合LED芯片的正常工艺流程,又能去除镭射正划COW后产生的吸光产物,从而使COW的芯粒亮度不受到损失。 | ||
搜索关键词: | 一种 led 芯片 高温 酸腐 切割 方法 | ||
【主权项】:
一种LED芯片高温混酸腐蚀切割道的方法,其特征在于包括以下步骤:(1)将COW用丙酮,异丙醇超声清洗10min,清水冲洗5min后,旋干,并在烤箱中120℃烘烤10min;(2)在COW表面沉积1μm的高致密SiO2做为掩膜;(3)根据COW表面芯粒之间的切割道,用镭射在其表面进行切割,激光光斑的宽度为8μm~10μm,划深为35μm~40μm;(4)将浓硫酸和浓磷酸混合均匀后,将混酸加热至特定温度;(5)将镭射切割后的COW用耐酸性陶瓷提篮放置于混酸中,放置10min取出;(6)用BOE将高温酸腐蚀后的产品表面的SiO2湿法腐蚀干净;(7)上述成品研磨至100μm,背劈后便可以按照正常LED芯片流程作业,直至方片入库。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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