[发明专利]一种光扩散薄膜及其制备方法无效
| 申请号： | 201310414713.8 | 申请日： | 2013-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN103467962A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 施利毅;丁鹏;赵昱;巴超群 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C08L69/00 | 分类号： | C08L69/00;C08L33/12;C08L25/06;C08L83/04;C08K3/36;C08K3/22 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 陆聪明 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光扩散薄膜及其制备方法，其组成按重量配比为：高分子基体材料95.0-99.9％；光散射剂0.1-5.0％。该发明采用高分子基体为主体，添加光扩散剂，通过在溶液中均匀分散的方法，制备光扩散薄膜。本发明的光扩散薄膜可用于光学领域各种相关制品的制备，环保，安全性能高，适合制作LED用灯罩材料。本发明采取的溶液法可以解决光扩散剂在高分子基体中分散不均的问题，使得到的光扩散材料具有较高的透过率及雾度，性能明显优于一般工艺条件的样品。而且，本发明的薄膜使用溶液法制备得高雾度高透光率的薄膜，避免了使用熔融共混时出现的聚碳酸酯等基体材料降解、发黄的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扩散 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光扩散薄膜，由高分子基体和光扩散剂通过溶液法成型，其特征在于，其组成按重量配比为：高分子基体 95.0~99.9%，光扩散剂 0.1%~5.0%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学，未经上海大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310414713.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种不同组成煤沥青混配沥青及生产工艺
- 下一篇：电容器吊攀半自动焊机
