[发明专利]过孔的检测方法和检测装置有效
| 申请号： | 201310421903.2 | 申请日： | 2013-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN103471505A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 王守坤;郭会斌;刘晓伟;郭总杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/26;G01B11/30 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种过孔的检测方法和检测装置，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括：向所述过孔的内壁发射入射光线；接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。本发明提供的检测方法利用了光的干涉原理，实现了对过孔的实时检测，更重要的是，该检测方法不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种过孔的检测方法，其特征在于，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括：向所述过孔的内壁发射入射光线；接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310421903.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种剪切位移散斑测量方法及装置
- 下一篇：一种轴检测装置
