[发明专利]BSI图像传感器件的新型背面结构有效
申请号: | 201310422086.2 | 申请日: | 2013-09-16 |
公开(公告)号: | CN104051478B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 蔡双吉;杨敦年;刘人诚;洪丰基;林政贤;庄俊杰;高敏峰 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人: | 章社杲,孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种制造图像传感器件(诸如BSI图像传感器)的方法和用此方法制造的图像传感器,其中,防止了BARC层中的电荷被金属屏蔽接地件中的相反电荷不期望的中和,从而减少暗电流并且提高器件的性能。图像传感器包括具有在与其正面相邻处形成的多个辐射传感器的衬底、形成在衬底背面上方的第一绝缘层、形成在第一绝缘层上方的BARC层、设置在BARC层上方的金属栅格、从金属栅格延伸进入衬底内以实现接地目的的一个或多个金属接地件以及设置在每一个金属接地件的侧壁与周围的BARC层之间的侧壁绝缘层。侧壁绝缘层使金属接地件与周围的BARC层电隔离。 | ||
搜索关键词: | bsi 图像传感器 新型 背面 结构 | ||
【主权项】:
一种图像传感器件,具有辐射吸收区和辐射阻挡区,所述图像传感器件包括:衬底,具有前面和背面,并且延伸跨过所述辐射吸收区和所述辐射阻挡区;多个辐射传感器,形成在所述辐射吸收区中与所述衬底的前面相邻处,可操作所述辐射传感器以检测穿过所述背面进入所述衬底的辐射波;第一绝缘层,形成在所述衬底的背面的上方;抗反射涂层,形成在所述第一绝缘层上方;导电层,形成在所述辐射阻挡区中,所述导电层包括:沉积在所述抗反射涂层上方的水平部分和从所述水平部分基本上垂直地延伸,穿透所述抗反射涂层和所述第一绝缘层,并且到达所述衬底以使所述导电层接地的一个或多个垂直部分,所述一个或多个垂直部分中的每一个都具有基本上与所述水平部分垂直的侧壁;以及侧壁绝缘层,设置在每一个所述垂直部分的侧壁与周围的所述抗反射涂层之间以在它们之间提供电隔离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310422086.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:成像传感器结构和方法
- 下一篇:一种具有减肥保健功能的电脑椅
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的